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https://locus.ufv.br//handle/123456789/13849
Tipo: | Artigo |
Título: | Planta Didática Smar PD3: ajuste dos parâmetros do controlador PI do tanque de aquecimento – Parte B |
Autor(es): | Domingos, Nathalia Bastos Morais, Camila Raissa Rodrigues de Nicacio, José Vitor Tôrres, André Gomes |
Abstract: | O controle PID (proporcional, integral e derivativo) é importante para assegurar a padronização e segurança de diversos processos químicos de uma indústria, assim como a qualidade de seus produtos. Este trabalho foi realizado no tanque de aquecimento da planta didática Smar PD3 com a sintonia do controlador PI (proporcional e integral) e a análise de estabilidade do sistema de controle. De posse das funções de transferência do tanque de aquecimento, para as vazões de 200, 400, 600 e 1000 L.h^-1 , foi realizada a sintonia do controlador PI para a vazão de 600 L.h^-1 e posterior validação do controle experimentalmente na planta, que mostrou resultados satisfatórios. Para as outras vazões foram utilizados os mesmos parâmetros do controlador encontrados para a vazão de 600 L.h^-1 , sendo então calculadas as raízes empregando algoritmo descrito em Matlab®, o que comprovou a validade do controle para todas as vazões estudadas. |
Palavras-chave: | Processos químicos Controlador PI Estabilidade |
Editor: | The Journal of Engineering and Exact Sciences |
Tipo de Acesso: | Open Access |
URI: | https://doi.org/10.18540/2446941603032017476 http://www.locus.ufv.br/handle/123456789/13849 |
Data do documento: | 3-Mar-2017 |
Aparece nas coleções: | Artigos |
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